Normennummer: GB/T 14849.4-2014
Chinesisch:工业硅化学分析方法 第4部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
Deutsch:Verfahren zur chemischen Analyse von Silicium-Metall – Teil 4：Bestimmung des Gehalts an Verunreinigungen – Atomemissionsspektrometrisches Verfahren mit induktiv gekoppeltem Plasma
Wirksamkeitsdatum:2015-08-01
Regulierungsbehörde:Verband der chinesischen Nichteisenmetallindustrie
Regulierungsbehörde, die die Erlaubnis ausstellt:Allgemeine Verwaltung für Qualitätsüberwachung, Inspektion und Quarantäne der Volksrepublik China (General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People’s Republic of China),Verwaltung für Normung in China (SAC)
Erfüllt internationale Standards:N
Als PDF herunterladbar:Y
